Better Lit Shader 1.2.5 高级光照着色器

皆大欢喜

最新发布日期 2022年4月11日
支持Unity版本 2021.2.6或更高

Better Lit shader 2021是一个改进的Lit shader，可以在所有的渲染管道中运行，并为贴图提供一些多层和程序技术。

描述:
Better Lit Shader 2021可以替代内置的Pipleine's Standard或URP/HDRP Lit Shader，具有以下特点和改进。

2021年的新功能。需要Unity 2021.2.6作为最低版本。
2021年新功能。视差遮蔽贴图
2021年新功能。每个纹理层的URP/HDRP中的透明涂层贴图
2021年新功能。三平面贴图，从每一面投射一个贴图
2021年新功能。效果器系统，根据世界上的球体和平面来控制效果
2021年新功能。线框渲染
2021年新功能。雪和每个纹理层的闪光和菲涅尔选项
2021年新功能。噪声质量和噪声空间现在可以在每个图层中使用，而不是全局使用
2021年新增：快速金属包装，新的包装模式。快速金属包装，金属工作流程的新包装模式
2021年新功能。第四纹理层
2021年新增：6面梯度投影，用于纪念碑谷风格的渲染
新功能 2021年: 顶点着色
2021年新功能。变体剥离系统，以加快构建速度并减少构建尺寸
2021年新功能。支持URP/HDRP12.x
2021年新增。用于URP的烘烤模式
2021年新增：适用于URP的烤漆模式。用于 HDRP 的几何镜面 AA
HDRP风格的纹理打包，或自定义紧密打包的纹理格式以加快着色速度
镶嵌和视差支持
无裂缝镶嵌网格预处理程序
纹理的随机取样，以消除平铺现象
Tint Masking，允许你独立对主纹理层的4个独立部分进行着色。
完全支持 Bakery GPU Lightmapper
HDRP风格的细节纹理
四个额外的独立纹理层，可以作为细节纹理，高度混合，或阿尔法混合，每个层都有独立的三平面UV、三平面纹理和随机选项。这些也可以通过顶点绘画、噪音函数和程序函数进行遮蔽，使你可以创造许多不同的效果。
每层都有微阴影和模糊阴影。
在每个纹理层上使用 UV、UV1、Triplanar UV、Triplanar Texturing 或世界投影。
平面阴影
单面或双面
湿润度，自动与Enviro和Weather Maker整合。
水坑，自动与Enviro和Weather Maker整合。
通过噪音功能和角度过滤器自动放置水坑
雪系统，自动与Enviro和Weather Maker整合
风系统，用于表面的微粒风
溶解效果，有可选的梯度边缘和可选的发射器
Trax集成允许你在你创建的任何材料上留下痕迹。
支持植被工作室的间接程序
支持所有的VR渲染模式
直接在着色器中生成法线，以节省低端系统的采样/内存，或使用表面梯度框架进行更高质量的混合。
分支采样，以减少随机和三平面采样的成本
调试模式，可以看到着色器使用的实际采样数量
LOD抖动消隐
自定义材料界面
只使用本地关键字，没有添加全局关键字

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